产品介绍
- 清洗、AOI检测实现MASK在曝光核心工艺之间流转。
- 半导体的曝光机制程中用的掩膜版，其不使用时装在特制的盒子内保管。
- 全自动Mask(掩膜版）取放及搬运，实现Mask密集化存储
- RGV采用直角平移式换轨，节省空间
- 对接Mask存储库,实现AOI, 清洗，包装多工艺多流程全自动化作业
- 洁净等级 Class10@0.1μm
技术参数
| 供电方式 | 滑触线、非接触供电（可选择） |
|---|---|
| 最大负载 | 5kg |
| 驱动方式 | 伺服电机 |
| 行走运动 | 齿轮齿条+直线导轨 |
| 行走速度（max） | 1m/s |
| 行走加速度（max） | 0.8m/s² |
| 回转运动 | 3枢轴+谐波驱动 |
| 通讯方式 | 漏波电缆 |
| 回转速度（max） | 45°/s |
| 回转加速度（max） | 0.18m/s² |
| FORK伸缩运动 | 3枢轴+谐波驱动 |
| FORK伸缩速度（max） | 0.2m/s |
| FORK伸缩加速度（max） | 0.18m/s² |
| 货叉重复精度 | ±0.5mm |
以上为产品选型资料，实际规格以项目技术协议为准。
